準分子紫外光精密清洗機
一、 紫外光清洗的原理和特點：
1、光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質，經過光清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”， 是一種“干洗”方式，可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。
2、可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。
3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產品的高可靠性和高成品率。
5、產品表面清洗處理的均勻度一致。
二、準分子紫外光清洗的獨特優點：
1、高效快速清洗
有為172nm準分子紫外燈能發出窄譜 (10nm)的單色真空紫外光，具有極快的反應速率，清洗速率比用低壓汞燈快10倍以上，對玻璃的清洗效率佳，是目前清洗制程的主流。
2、低溫加工過程
由于不產生紅外譜線，且因加工時間短，所以對被加工對象幾乎不產生加熱效應。
3、節能環保
沒有自吸收現象，電光轉化效率高達40%，因而產生很高的光強只需消耗很低的電能，且沒有使用汞燈所帶來的廢舊回收處理問題。
4、瞬間開啟和熄滅
可根據需要發射所需光能，且能隨時瞬間開啟熄滅，不需要用快門。
5、安裝角度靈活方便
有為光子發生器可根據需要加工不同空間角度的被加工物，很容易整合進入現有的生產線，安裝簡便、替換性好。
三、光清洗技術的應用領域：
主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法比較合適。
主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
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